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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Siteplutao.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP3W/43NH92P
Repositóriosid.inpe.br/plutao/2020/12.07.15.17.54   (acesso restrito)
Última Atualização2020:12.08.11.36.24 (UTC) lattes
Repositório de Metadadossid.inpe.br/plutao/2020/12.07.15.17.55
Última Atualização dos Metadados2022:01.04.01.31.25 (UTC) administrator
DOI10.32640/tasj.2020.3.167
ISSN2595-1521
Rótulolattes: 8018361940015147 2 VianaSARRCMB:2020:FiFiAl
Chave de CitaçãoVianaSARRCMB:2020:FiFiAl
TítuloFilmes finos de alumina em substratos de alumínio 5052 por processo de oxidação eletrolítica à plasma
Ano2020
Mêsset.
Data de Acesso11 maio 2024
Tipo de Trabalhojournal article
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho1477 KiB
2. Contextualização
Autor1 Viana, José
2 Sá, Rosa Corrêa Leoncio de
3 Araujo, Tamires
4 Ribeiro, Rafael
5 Rangel, Elidiane
6 Cruz, Nilson
7 Martinez, Luis
8 Bock, Eduardo
Grupo1
2 CMS-ETES-SESPG-INPE-MCTIC-GOV-BR
Afiliação1 Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo (IFSP)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
3 Universidade Estadual Paulista (UNESP)
4 Universidade Estadual Paulista (UNESP)
5 Universidade Estadual Paulista (UNESP)
6 Universidade Estadual Paulista (UNESP)
7 Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares (IPEN)
8 Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo (IFSP)
Endereço de e-Mail do Autor1
2 rosa.sa@inpe.br
RevistaThe Academic Society Journal
Volume4
Número3
Páginas167-180
Histórico (UTC)2020-12-08 11:36:25 :: lattes -> administrator :: 2020
2022-01-04 01:31:25 :: administrator -> simone :: 2020
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-ChaveÓxido de Alumínio
Filmes Finos
PEO e DAV
Alumina Oxide
Thin Films
Oxidation Electrolytic Plasma (OEP) and Ventricular Assist Device (VAD)
ResumoA alumina, ou óxido de alumínio, tem diversas aplicações como Biomaterial, além de ser utilizada em ferramentas de usinagem, retificas, isolamento térmico, blindagens, refratários para fornos de aquecimento, isoladores elétricos, componentes eletrônicos, devido a sua elevada resistência a altas temperaturas, dureza, resistência mecânica e resistência química. Sua obtenção é decorrente de processos intermediários da fabricação do alumínio primário e também de processos de deposição físicos e químicos. Este trabalho tem como objetivo a obtenção de filmes finos de alumina por meio do processo de Oxidação Eletrolítica à Plasma ou Plasma Eletrolítico de Oxidação (PEO), usando como substrato a liga de alumínio 5052. Este estudo serve de base para aplicações de filmes de finos de alumina em rotores de bombas de sangue centrífugas implantáveis, usadas como dispositivos de assistência ventricular desenvolvidos pelo Laboratório de Bioengenharia e Biomateriais do Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo. As amostras foram preparadas com a mesma área superficial do rotor, visando simular o mesmo comportamento da deposição do filme no rotor e, desta forma, estudar a morfologia em diferentes tempos e energias de oxidação e como a influência do tempo e da energia na geração dos micro-arcos de plasma agem na formação do filme de alumina. A caracterização do filme foi realizada por Microscopia Eletrônica de Varredura, Espectroscopia por Energia Dispersiva e Difração de Raios X. Os filmes cerâmicos no PEO são criados através da reação da solução eletrolítica com as descargas elétricas produzidas por uma fonte, sendo depositados na superfície das amostras através de micro arcos. Em trabalhos futuros os filmes serão testados quanto à sua viabilidade celular e também serão avaliados como recobrimento interno de bombas de sangue centrífugas implantáveis para utilização em dispositivos de assistência ventricular. ABSTRACT: Alumina, or aluminum oxide, has several applications as Biomaterial in addition to being used in machining tools, grinding, thermal insulation, shielding, refractory for heating furnaces, electrical insulators, electronic components due to its high resistance to high temperatures, hardness, mechanical resistance and chemical resistance. Its achievement is due to intermediate processes in the manufacture of primary aluminum, as well as physical and chemical deposition processes. This work aims to obtain thin films of alumina through the Plasma Electrolytic Oxidation process, using the 5052 aluminum alloy as a substrate. This study serves as a basis for applications of thin films of alumina in Implantable Centrifugal Blood Pump rotors used as Ventricular Assist Devices developed by the Laboratory of Bioengineering and Biomaterials in the Federal Institute of São Paulo. The samples were prepared with same surface area of the rotor, in order to simulate the same behavior of the rotor film deposition, thus being able to observe the morphology at different oxidation times and energies, and how the influence of time and energy on the generation of plasma micro-arcs act in the formation of the alumina film. The film was characterized with Scanning Electron Microscopy, Dispersive Energy Spectroscopy and X-Ray Diffraction. The ceramic films in the PEO are created by the reaction of the electrolytic solution with the electrical discharges produced by a source, being deposited on the surface of the samples through micro arcs. In the future, the films will be tested for cell viability, and will also be evaluated as an internal coating of Implantable Centrifugal Blood Pump for use as Ventricular Assist Device.
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4. Condições de acesso e uso
Idiomapt
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Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3F358GL
Acervo Hospedeirodpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivingpolicy archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel dissemination e-mailaddress format isbn lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarykey secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url
7. Controle da descrição
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